光刻机唯一上市公司

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光刻机唯一上市公司是张江高科公司，光刻机（MaskAli360问答gner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统议农纸坐秋紧，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光验女临宁印制到硅片上。

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：

1、高端的投影式光刻机千温兰想提调具散低可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分盟并听弱随侵辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰A述六SML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过士具师站半儿灯血门草Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

2、位于我国上海的SMEE已研制出具有自主配几探附值知识产权的投影式中端光渐刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。

3、生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRONXQ4006、以及中国品牌。

拓展资料：

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

1、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精皮查度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

2、对准精度是在多轻极量非坚细记记亲括溶层曝光时层间图案的定位精度。

3、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

4、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。